Beklediğiniz için Teşekkürler
Menü
Kapat
Yaklaşımımız
Ürünlerimiz
Patentlerimiz & Teknolojilerimiz
Bize Ulaşın
SSS
Ask
NAOS
Menü
Ana Sayfa
Patentlerimiz
Patentli D.A.F. Teknolojisi
Patentli D.A.F. Teknolojisi
Dış etkenler, cildi reaktif ve hassas olmasına neden olabilir.
Bu teknoloji, cilt tipi ne olursa olsun, cildin tolerans eşiğini artırarak cildin direncinin güçlenmesine yardımcı olur.